國望光學研發生産基地位于北京經濟技術開(kāi)發區，規劃建築面積東開12萬平方米，預計2023年投入運行後，将擁有350但照/280nm節點、90/110nm節點、2少兒8nm及以下節點極大(dà)規模IC制造投影光刻機曝光光學業子系統産品的研發、設計與批量生産供貨能力。國望兒見光學基本定位是建立我國自主的超精密光學産業技術研發與生美身産體系，形成極大(dà)規模IC制造投影光刻機曝光光學系統、高端精現鐵密光學儀器(qì)與裝備的批量生産供貨能力，從根本上解決我國IC制造投影光刻機多老曝光光學系統及高端精密光學裝備的産業化問藍腦題。